光学薄膜常见的不良及解决计划

光学薄膜强度不良的爆发原因：

基片与膜层的结合。一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。由于基片外貌在光学冷加工及清洗历程中不可制止地会有一些有害杂质附着在外貌上，而基片的外貌由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质(如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要)，很难以用一般的要领去除洁净，特别关于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。当膜料分子聚集在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。别的，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度。硝材化学稳定性差，基片在前加工历程中流转历程中，外貌已经受到腐化，形成了腐化层或水解层(也许是局部的、极薄的)。膜层镀在腐化层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良�；饷灿性辔邸⒂桶摺⒒业恪⒖谒愕�，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。

改善对策：

㈠增强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功效，并包管去油溶液的有效性;如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。

㈡增强镀前烘烤，条件许可，基片温度能抵达300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片外貌的水汽、油汽挥发。*注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，真空室的洁净度要提高。不然基片在镀前就有灰尘附着，除爆发其它不良外，对膜强度也有影响。(真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上)。但不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑爆发。这与应力以及质料热匹配有较大的关系。

㈢有条件时，机组装置冷凝机(PLOYCOLD)，除提高机组真空抽速外，还可以资助基片水汽、油气去除。

㈣提高蒸镀真空度，关于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高。

㈤有条件时，机组装置离子源，镀前轰击，清洁基片外貌，镀膜历程辅助，有利于膜层的密实牢固。

㈥膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥。

㈦坚持事情情况的干燥(包括镜片擦拭、上伞事情区)，清洁事情情况时不可带入过多的水汽。

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